Tấm thủy tinh thạch anh silic nung chảy có độ tinh khiết cao với 99,99% SiO2, độ truyền ánh sáng> 92%, tia cực tím trong suốt, độ dày 0,5-100mm, nhiệt độ làm việc 1150oC. Kích thước tùy chỉnh, tiêu chuẩn JGS, chống ăn mòn, chịu nhiệt độ cao, cách điện chắc chắn.
Nhà máy cung cấp tấm thủy tinh thạch anh chịu nhiệt có độ tinh khiết cao (SiO₂>99,99%) với điểm làm mềm 1683°C, nhiệt độ làm việc 1100-1200°C, độ cứng Morse 6,5 và độ truyền ánh sáng 92%+. Có sẵn hình dạng tùy chỉnh, độ dày 0,3-100mm, bề mặt được đánh bóng và moq thấp.
Chemical Reactor High Quality Quartz Tube Reactor Professional Quartz Glass Reactor Manufacturer We are a manufacturer of UV Quartz Photocatalytic Reactor Glass Reactor Lab UV Quartz Photocatalytic Reactor Glass Reactor Lab Capacity design: Accept customized according to your drawing and capacity. ...
Ống thủy tinh thạch anh nhiệt độ cao với độ tinh khiết 99,99% SiO₂, nhiệt độ làm việc lên tới 1100oC, phạm vi OD 10-10000mm. Lý tưởng cho các ứng dụng bán dẫn, phòng thí nghiệm và lò công nghiệp. Cắt/đục tùy chỉnh có sẵn với các mẫu miễn phí.
Factory Made High Temperature Resistant Corrosion Resistant Customizable Quartz Glass Flasks and Quartzware Factory Made Quartz Glass Beakers and Quartzware - High Temperature Resistant & Corrosion Resistant Custom Quartz Products We support custom quartz products with the following specifications: ...
Tấm thủy tinh thạch anh trong suốt UV có độ tinh khiết >99,99% SiO2, độ truyền ánh sáng >92% và nhiệt độ làm việc 1150oC. Có độ dày 0,5-100mm với tiêu chuẩn JGS1/JGS2/JGS3. Kích thước và hình dạng tùy chỉnh được sản xuất theo thông số kỹ thuật của bạn cho thiết bị laser và các ứng dụng công nghiệp.
Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Để lại tin nhắn.
Chúng tôi sẽ gọi lại cho bạn sớm!
Tin nhắn của bạn phải có từ 20-3.000 ký tự!
Vui lòng kiểm tra E-mail của bạn!
Gửi
Nhiều thông tin tạo điều kiện cho giao tiếp tốt hơn.
Ông
Ông
Bà
ĐƯỢC RỒI
Đã gửi thành công!
Chúng tôi sẽ gọi lại cho bạn sớm!
ĐƯỢC RỒI
Để lại tin nhắn.
Chúng tôi sẽ gọi lại cho bạn sớm!
Tin nhắn của bạn phải có từ 20-3.000 ký tự!
Vui lòng kiểm tra E-mail của bạn!
Gửi
Vui lòng để lại email chính xác và yêu cầu chi tiết (20-3.000 ký tự).